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六靶磁控

[2014/02/17]六靶磁控

高真空多弧离子镀膜设备

[2014/02/17]高真空多弧离子镀膜设备

  主要用途:   真空电弧离子镀的原理是基冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术,使沉积粒子细化,膜层的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面制品上进行镀膜,可以镀金属膜、氮化钛、氮化锆、氮化铬、及钛、铬、铜等...
电子束蒸发镀膜设备

[2014/02/18]电子束蒸发镀膜设备

激光分子束外延

[2014/02/17]激光分子束外延

分子束外延

[2014/02/18]分子束外延

多管LPCVD

[2014/02/17]多管LPCVD

  主要用途:   设备用LPCVD工艺生长多晶硅(Poly-Si)氧化硅(SiO2)和氮化硅(Si3N4)。设备具有全自动运行方式和手动运行方式,实现炉温,气体流量, 压力,阀门的动作,泵的启闭的自动控制。   设备组成:   设备为水平管卧式...
MOCVD

[2014/02/17]MOCVD

  主要用途:   MOCVD金属有机化学气相沉积设备可外延生长GaN和ZnO单晶薄膜。   设备组成:   材料的输运采取了超纯的气路系统,源的切换和输入采用了多路 组合阀进气技术,有利于生长,具有陡峭界面的材料。采用压差控制技术控制组合阀的旁...
OLED-有机金属热蒸发沉积镀膜设备

[2014/02/17]OLED-有机金属热蒸发沉积镀膜设备

超硬涂层(工模具)真空镀膜机

[2017/01/04]超硬涂层(工模具)真空镀膜机

真空卷绕镀膜设备

[2017/01/04]真空卷绕镀膜设备

嵌入真空电源类

[2015/07/13]嵌入真空电源类

  直流磁控溅射电源主要特点:直流磁控溅射电源主要用于镀制金属膜,如金、银、铝、钛等,输出电压为直流,具有稳流功能。   主要参数:   电压800V   功率:20KW---80KW   电流:≥20A   冷却方式:风冷
真空烧结炉

[2015/05/29]真空烧结炉

空心阴极等离子镀膜

[2015/05/29]空心阴极等离子镀膜

  空心阴极等离子镀膜是采用HCD法使金属或金属化合物蒸发、离子化或与气体反应,沉积在工件表面。在工件表面形成一层致密的涂层。是近十年发展起来的新型离子镀技术。   空心阴极离子镀,具有蒸发速度快、蒸发金属离化效率高、高速中性粒子多、工作真空度较低...
DLC硬质涂层真空镀膜机

[2015/04/27]DLC硬质涂层真空镀膜机

  适用范围:工模具、汽车配机、缝纫机配件、注塑机配件等需要进行耐磨涂层的金属   用于镀制DLC、TiN、TiCN、CrN、AlTiN、CrAlTiN等超硬膜层、耐磨涂层、自润滑涂层的真空镀膜机。配有条形离子源、磁控靶、分子泵等。全自动控制,设有...
不锈钢饰板离子镀膜机

[2015/04/27]不锈钢饰板离子镀膜机

  不锈钢饰板离子镀膜机:   不锈钢饰板离子镀膜机专为不锈钢饰板离子镀装饰膜层设计,离子镀膜层有真实的金属质感,这是化学镀不锈钢彩板不能比拟的。该系列设备镀室直径Φ1800~2300mm高3600~4400mm,可一次镀1220x4000mm板3...