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六靶磁控

2014-02-17字体:
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六靶磁控



主要用途:
  该设备是一台高真空双室六靶六工位(永磁靶)磁控溅射镀膜设备。
  适用于镀制各种单层膜、多层膜系、可镀掺杂膜。可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜(需配射频电源)、介质复合膜和其它化学反应膜。

技术指标:
  1、基片尺寸:大真空室:≤Φ6英寸×6片;
  2、基片加热器温度:大真空室:室温~650℃;温度可用电脑编程控制,可控可调。
  3、基片公转+自转,旋转速度0~50转/分。
  4、靶面到基片距离50~150mm 在线可调(电脑控制,手动或自动方式)。
  5、基片架可加热、可冷却、可旋转、可升降。
  6、极限真空:5×10-6Pa,恢复工作真空7×10-4Pa;30-40分种(新设备充干燥氮气),设备总体漏放率:关机12小时真空度≤10Pa

技术参数:
型号 JZCP-450 磁控溅射靶 3-6只
样品处理室尺寸 250×270mm 气路系统 1-6路
样品处理室真空度 5×10-4Pa 烘烤温度 室温-150℃
保压 关机12小时后≤10Pa 冷却方式 水冷
溅射室尺寸 650×400mm 真空系统 机械泵+复合分子泵(两套)
溅射室真空度 5×10-6Pa 偏压电源 500V
六工位样品台 可加热 可冷却 可升降 可旋转



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