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OLED-有机金属热蒸发沉积镀膜设备

2014-02-17字体:
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OLED-有机金属热蒸发沉积镀膜设备







  主要用途:

  有机/金属热蒸发—沉积镀膜设备,它是在高真空条件下,通过加热材料的方法,在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜,主要用于有机半导体材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验OLED实验研究。

  设备特点:

  1. 超高真空密封主要采用如下技术:玻璃金属焊接技术、陶瓷金属焊接技术、刀口无氧铜金属密封技术等,整机主要采用金属密封技术,前开门用氟胶圈,真空管路用不锈钢金属波纹管路(不用橡胶管路),采用超高真空阀门。

  2. 运动部件的密封,采用磁力耦合动密封技术。

  3. 基片加热器采用进口铠装加热丝结构。

  4. 基片加热器采用均温技术,保证基片加热的均匀性。

  5. 蒸发舟配磁力耦合挡板,基片配磁力耦合挡板,保证镀膜的可控性。

  6. 每个蒸发舟采用独立的结构(本公司独创),互不关联。

  7. 每个蒸发舟电源与温控表联动,控制蒸发速率。

技术参数:(可定制)
型号 JZZF-500-Ⅱ  蒸发电源功率 2000W
结构形式 筒型前开门结构 烘烤温度 室温—150℃
蒸镀室(mm) ¢500×500    冷却方式 水冷
极限真空 5×10-5Pa 膜厚测试仪
膜厚测量范围:0~99999.9Å;
速率:0~999.9Å/s;
晶片:MHz;
频率分辨率:0.03Hz;
膜厚分辨率:0.1Å;
抽速 大气抽至5×10-4Pa≤40min
保压 关机12小时真空度≤10Pa
基片加热温度 室温—600℃ 可调可控
控温精度 1±℃ 膜厚探头 1-6只
电阻蒸发源 水冷电极6-12对 真空系统配置 复合分子泵+机械泵

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