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电子束蒸发镀膜设备

2014-02-18字体:
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电子束蒸发镀膜设备
主要用途:
该设备为电子束蒸发—沉积镀膜设备,具有有机材料热蒸发—沉积和金属材料热蒸发—沉积成膜功能。集成了电子束镀膜系统和热蒸发镀膜系统,用于制备各种金属薄膜、半导体薄膜、绝缘薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,可实现多层薄膜的连续沉积,镀膜厚度可实时监控。

设备特点:
1.采用超高真空密封技术,极限真空度高,真空室可进入10-5Pa量级(电子枪静止状态),保证更高的镀膜纯净度,提高镀膜质量。
2、蒸发舟配磁力耦合挡板,基片配磁力耦合挡板,保证镀膜的可控性。
3、每个蒸发舟采用独立的结构(本公司独创),互不关联,避免了传统结构带来的安装维护困难的问题。
4、前开门结构,便于蒸发材料和样片的装载,便于真空室的清理维护
5、运动部件的密封,采用磁力耦合传动密封技术。
6、电子枪:配高压电源。电子枪功率≥ 6kW可调(满足金属、绝缘材料高速蒸发)6穴水冷坩埚(适用于对多种材料进行蒸发镀制多层膜且膜层较薄工艺中应用效果很好)。为保持E型电子枪蒸发绝缘稳定性,配制高品质束流扫描控制器,具有多种供控制程序进行选择的预设模式,方便于操作、实验数据积累。配套相应蒸发坩埚内衬,以适应不同材料,确保蒸发速率稳定性,重复性.
7、系统自动监控和保护功能强,包括断水报警、相序检测与保护、温度检测与保护、真空系统检测与保护等。

技术参数:
型号 JZZF&DZS-500 电子枪功率 0-8KW
真空室尺寸 ¢500*500(可定制) 电子枪穴位 4-6穴(可选)
极限真空 5×10-5Pa(电子枪静止状态) 蒸发电源
电阻蒸发源
1-4台(可切换)
可高精度控制输出
抽速 从大气抽至工作真空小于40分钟
保压 关机12小时真空度≤10pa 真空系统配置 1-4组(可选,可多源共蒸)
基片加热温度 室温-600℃可调可控 供电 复合分子泵+机械泵
基片尺寸 100mm×100mm(可定制) 冷水机循环量 380V
基片最大升降距离 0--70mm 工作环境温度 1M3/H  
控温精度 ±1℃ 电子枪功率 10℃-35℃
冷却方式 水冷
注:1.可选配PLC控制系统;膜厚测试仪及膜厚探头