• 设备展示
  • 合作伙伴
  • 新闻资讯
  • 资质荣誉
设备展示
您的当前位置:首页 - 设备展示

激光分子束外延

2014-02-17字体:
分享到:
激光分子束外延

  主要用途:

  用于生长光学晶体、铁电体、铁磁体、超导体和有机化合物薄膜材料,尤其适用于生长高熔点、多元素及含有气体元素的复杂层状超晶格薄膜材料。

  设备组成:

  系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。

  外延室:超高真空环境下完成材料外延生长

  进样室:可快速进样,并保证外延室超高真空环境

  电器控制系统:精确控制温度、转速、位移

  差分高能电子衍射仪:可原位监测生长过程

  CCD成像:观察衍射光点图像、强度变化,采集数据,储存,打印

  气体电离系统:专利技术设计,保证特真空下工作需求

  四极质谱仪:系统检漏或残气分析(用户可选购)

  脉冲准分子激光器:(用户可选购)

  激光束扫描系统:专利技术设计,灵活设定激光束扫描轨迹(用户可选购)

  计算机控制系统:自动控制加热,旋转,位移,激光束扫描(用户可选购)

技术参数:
型号 JZLMBE-450 基片加热台 可连续回转,转速5-60转/分
主真空室 球形结构 尺寸 ¢ 450mm 气路系统 2路质量流量控制器
进样室筒型卧式结构 尺寸¢ 150X300mm 可选部件 高能电子衍射仪
RHEED强度振荡,生长速率
监测系统
激光束扫描装置
养等离子体发生器及电源
计算机控制系统
四极质谱仪 
极限真空 主真空室 5x10-8pa
进样室  5x10-5pa
抽速 主真空室 40分钟6X10-4Pa
     进样室 40分钟6X10-4Pa
旋转样品台 靶材最大尺寸¢70,4块靶材,可公转换位,可自转。

下一条:分子束外延