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空心阴极等离子镀膜

2015-05-29字体:
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空心阴极等离子镀膜
  空心阴极等离子镀膜是采用HCD法使金属或金属化合物蒸发、离子化或与气体反应,沉积在工件表面。在工件表面形成一层致密的涂层。是近十年发展起来的新型离子镀技术。

  空心阴极离子镀,具有蒸发速度快、蒸发金属离化效率高、高速中性粒子多、工作真空度较低、设备简单、工作安全、无公害等特点。在工件表面沉积几乎所有金属或金属化合物涂层,如钛、铬、铜、、氮化钛、碳化钛、氮化铬、碳化铬等涂层。

  我公司引进国外先进技术,开发出具有自主知识的KLD系列空心阴极等离子真空镀膜机。采用我公司自主研发的HCD-Y型空心阴极枪及电源,具有束流稳定、密度大,容易引弧的特点,使得成膜效率高、膜层致密性、与基材结合力好。

  使用我公司的空心阴极镀膜机,可在工件表面形成1-10微米的结合力好的耐磨涂层。通过调整工艺,可在产品表面获得致密的高硬度、耐腐蚀、耐高温、耐磨擦及润滑膜,也可在产品表面镀制各种颜色的装饰膜。产品广泛应用于手表、首饰、眼镜、餐具等表面的装饰涂层和刀具、模具、工具及机械零件的功能性涂层。

  本技术可在真空室内放置一支或多支空心阴极枪,以及多个坩埚。设备操作简单,运行稳定可靠,耗电量低,无环境污染,是新一代的环境友好型离子镀膜设备。

  我公司为客户提供从厂房设计、前处理设备和工艺到真空镀膜设备和工艺的一站式解决方案。
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